紅外窗口用硫化鋅表面亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的制備與保護(hù).pdf_第1頁
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1、硫化鋅(ZnS)等光學(xué)窗口材料是紅外探測(cè)與成像技術(shù)的先導(dǎo)。硫化鋅表面抗反射亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),是指借鑒生物仿生的概念,在ZnS表面制備出尺寸與入射光波長(zhǎng)相當(dāng)或更小的亞波長(zhǎng)仿蛾眼精細(xì)圖案。與傳統(tǒng)的表面增透薄膜相比,亞波長(zhǎng)微結(jié)構(gòu)對(duì)高溫等惡劣環(huán)境下紅外探測(cè)的寬波段抗反射增透有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。本課題首先利用光學(xué)衍射原理,采用Rsoft軟件仿真計(jì)算設(shè)計(jì)合適的ZnS表面仿生抗反射亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu);在此基礎(chǔ)上,在ZnS表面制備Ni納米顆粒陣列掩膜,再以Cl2和Ar氣作

2、為刻蝕氣體,采用感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(ICP)進(jìn)行刻蝕從而制備抗反射亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。最后,采用原子層沉積(ALD)法,在ZnS亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)表面制備高硬度的HfO2保護(hù)膜,以期同時(shí)提高硫化鋅的光學(xué)和力學(xué)性能。主要采用掃描電子顯微術(shù)和原子力顯微術(shù)表征Ni掩膜及ZnS表面亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)形貌;采用紅外透射光譜和納米硬度儀分析表征其增透及其保護(hù)效果。
  采用Rsoft軟件模擬亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的周期、占位比和高度對(duì)硫化鋅透過率的影響,模擬結(jié)果表明:當(dāng)亞波長(zhǎng)

3、結(jié)構(gòu)的周期小于4μm,高度為2μm,占位比為0.6時(shí),其遠(yuǎn)紅外波段(8~12μm)透過率高于98%。模擬結(jié)果與理論計(jì)算相對(duì)吻合。
  通過在ZnS表面制備鎳膜退火形成鎳點(diǎn)(Ni)陣來作為掩膜,系統(tǒng)地研究了中間層厚度,鎳膜厚度,退火溫度及保溫時(shí)間對(duì)鎳點(diǎn)掩膜形成的形貌的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:鍍制硅膜作為中間層,退火后更容易形成鎳陣點(diǎn);而鎳點(diǎn)顆粒大小在一定范圍內(nèi)與鎳膜厚度,退火溫度及保溫時(shí)間成正比。
  采用電感耦合等離子體刻蝕(I

4、CP)制備硫化鋅表面亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu),研究RF射頻功率,氣體比例以及工作氣壓對(duì)制備亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)高度的影響。發(fā)現(xiàn)亞波長(zhǎng)高度隨RF射頻功率和工作氣壓變化規(guī)律都是先增大后減小,而加入BCl3不利于亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)高度的增大,使用最佳刻蝕工藝參數(shù)可以制備出高度較大的亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。
  采用原子層沉積(ALD)在亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)表面制備氧化鉿(HfO2)保護(hù)膜,對(duì)硫化鋅表面HfO2保護(hù)膜進(jìn)行納米硬度測(cè)試以及對(duì)硫化鋅表面亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)進(jìn)行紅外透過率測(cè)試和潤(rùn)濕角測(cè)試,結(jié)

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