基于微細(xì)加工技術(shù)的光柵研制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、 在這篇論文里描述了幾種新的光柵制作方法，分別可以用來制作凹面光柵、凸面光柵和周期可變光柵。同步輻射X光束的光強(qiáng)分布是遵循高斯分布的，即中間強(qiáng)，四周弱，利用此性質(zhì)，可以直接對PMMA基板進(jìn)行曝光，顯影后得到凹面，然后在用帶有光柵圖形的掩膜板光刻，即可得到凹面光柵。設(shè)計了一種由銅薄膜和Kapton薄膜構(gòu)成的簡單X射線光刻掩膜板，這種掩膜不僅制造簡單、成本低，而且可以任意彎曲，將它貼在一個PMMA圓柱上，光刻后即可在上形成凸面光柵。還設(shè)計

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