堿鋅

1、第一節(jié)堿性無氰鍍鋅堿性無氰鍍鋅為環(huán)保型的鍍鋅，鍍液不用劇毒的氰化物，廢水易處理。但不同的年代開發(fā)的添加劑，特點各有差異。20世紀70年代的國產堿性無氰鍍鋅鍍液的特點是①鍍層結晶細密，光澤好，分散能力和深鍍能力接近氰化鍍液；②鍍液穩(wěn)定、操作維護方便；③對設備無腐蝕性；④綜合經(jīng)濟效益好。這種鍍液亦存在沉積速度慢、允許溫度范圍窄（高于400C不好）、厚度超過15微米時有脆性。20世紀90年代進口的堿性無氰鍍鋅添加劑的特點是①高分散能力，高低電

2、流區(qū)鍍層厚薄非常均勻，高電流區(qū)（4A／dm2）鍍層厚度比為1.21.5（一般產品為2.03.0），大大節(jié)省鋅的耗量，同時節(jié)省了成本；②低脆性，厚度20微米，可以任意彎曲，鍍層不脫落；在2000C下恒溫烘烤60min后立即侵入冷水中驟冷，鍍層不起泡；③深鍍能力超過氰化物鍍鋅，低電流區(qū)沉積速度更快，鍍層厚，出光后不會漏鍍。這類工藝存在光亮度較低，抗雜能力較差，鍍層易發(fā)黃、發(fā)霧，鍍液不耐高溫，需要冷卻。例如安美特3000、開寧100#工藝。進

3、入21世紀后，中國堿性無氰鍍鋅添加劑綜合性能達到國際領先水平，不但具有20世紀70年代DPEⅢ的高光亮特性與90年代進口光劑的無脆性、高分散能力特性，解決了因鍍層高光亮造成的脆性問題，光亮與酸性鍍鋅相媲美。因鍍層更光亮，所以藍白鈍化，不易發(fā)黃；鍍液耐溫性更佳，450C也能鍍出光亮產品；操作范圍寬廣，赫爾槽6A電流時試片僅有0.5cm燒焦，赫爾槽0.2A電流時試片也能光亮，適合于大面積工件及復雜零件的電鍍；抗雜能力強，普通片堿、自來水即可

4、使用。例如Ekem221工藝。（二）鍍液配制方法配制溶液用的氧化鋅純度要求大于98%的工業(yè)一級品；片堿要用純度96%以上的固體堿。（1）鍍槽中加入14水，加入所需量的片堿，攪拌至完全溶解；（2）將計算量的氧化鋅用少量水調制成糊狀，在不斷攪拌下緩慢加到熱堿液中，直至攪到完全溶解；（3）在強烈攪拌下，加入2gL3gL鋅粉，按少量多次撒入鍍液中，攪拌30min；（4）在強烈攪拌下，加入2gL3gL活性炭，按少量多次撒下，攪拌30min；（5）

5、靜置4h8h后虹吸過濾；（6）加入計算量的添加劑，攪拌均勻；（7）在0.2Adm20.3Adm2下點解10h20h，試液。（三）鍍液組成與工藝維護1.氧化鋅鋅含量對鍍液性能和鍍層質量有重要影響。鋅偏高，沉積速度提高，但分散能力和深鍍能力降低，低電位區(qū)光亮度差，易發(fā)黑，復雜件的尖棱部位鍍層粗糙，容易出現(xiàn)陰陽面。含量偏低，分散能力好，但沉積速度慢。氧化鋅控制在8gL15gL。工業(yè)氧化鋅由于生產的原因，一般純度有問題，所以建議用鋅錠溶解的方法

6、進行補充鋅含量（一般采用溶鋅槽）。若使用氧化鋅時建議在線外先試片堿將氧化鋅溶解后，用鋅粉處理，然后再加入鍍槽中，雜質含量高是要多處理幾次，否則會污染鍍液，造成無法正常生產，需在鍍槽中直接處理。一般堿性無氰鍍鋅槽較大，大處理較困難，會造成人力、材料的浪費與工期的延誤。2.氫氧化鈉起絡合和導電作用，過量的氫氧化鈉是穩(wěn)定鍍液的必要條件，鋅以Zn(OH)24形式存在。pH值＜10.5時，Zn(OH)24轉化為Zn(OH)2沉淀。生產中宜控制Na

7、OHZn的比值在1014，最佳為12：1.氫氧化鈉過高，陽極化學溶解加速，鋅自然升高，造成主要成分比例失調，濃度以100gL150gL為宜。50mgL時都會造成鍍層烏暗、發(fā)黑，產生黑色條紋等疵病。雜質定期用1gL3gL鋅粉或ADCK778或Ekem221D除雜劑處理。除雜劑每次都要充分攪拌，采用ADCK778或Ekem221D作除雜凈化劑時，處理后要撈出表面懸浮物，酌情補充一些添加劑和光亮劑，并稍加電解。中高區(qū)發(fā)霧可以用Ekem221C

8、凈化劑處理。堿性無氰鍍鋅中的雜質一般不用硫化鈉處理，因為氫氧根對鋅的絡合能力較差，加入硫化鈉時會產乳白色的硫化鋅沉淀，硫化鋅沉淀的顆粒較粗，鍍層會產生毛刺。添加劑和光亮劑的分解產物以及油脂的帶入都會引起鍍層發(fā)脆，產生條紋、發(fā)花等疵病，每月或每季用3gL5gL活性炭處理一次?？列遭c中含碳酸鈉，吸收空氣中的二氧化碳也使鍍液中碳酸鈉含量升高。碳酸鈉小于60gL時幾乎無影響，超過80gL將導致內阻增加，升溫加快，電流密度上限值降低，碳酸鈉在50