RF LDMOS功率晶體管的特性分析與模型研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、RF LDMOS(Radio Frequency Lateral Double Diffused Metal Oxide Silicon)以其增益高、線性好、輸出功率大、穩(wěn)定性好、價格低廉等優(yōu)點成為通信基站,射頻雷達中的首選器件。然而國內(nèi)對于RF LDMOS功率晶體管的研究尚不成熟,本文基于國內(nèi)研究現(xiàn)狀開展了一款S波段工作的RF LDMOS器件的設計與研制。
  本文所設計的RF LDMOS晶體管源極采用Trench Sinker

2、結構將LDMOS源極引到P型重摻雜襯底,雙區(qū)LDD(Lightly Doped Drain)漂移區(qū)結構優(yōu)化器件擊穿電壓和導通電阻,源極金屬場板調(diào)制柵邊緣電場、降低柵漏電容。基于此 RF LDMOS器件的基本結構使用TCAD仿真工具Silvaco進行了工藝仿真。折衷優(yōu)化了RF LDMOS的比導通電阻、柵氧可靠性和擊穿電壓,確定了器件的Pbody區(qū)注入劑量、移區(qū)長度、漂移區(qū)摻雜分布、金屬場板長度、場板下方氧化層厚度等參數(shù)。根據(jù)仿真優(yōu)化設計的

3、的RF LDMOS器件結構進行了流片實驗,器件擊穿電壓為76V,正向飽和電流密度225mA/mm。通過柵極的L型預匹配網(wǎng)絡與漏極的T型預匹配網(wǎng)絡,提升了器件的輸入輸出阻抗。封裝后RF LDMOS的測試結果表明:在工作電壓30V,2.7-3.1GHz工作頻率下,漏極效率大于40%,輸出功率大于100W,功率增益大于10dB,達到預期設計目標。最后,針對所研制的RF LDMOS晶體管開展了電路模型研究。一方面基于RF LDMOS小信號電路模

4、型,使用 COLD-FET法提取了器件的寄生參數(shù),通過寄生參數(shù)剝離技術得到了LDMOS器件的本征元件參數(shù),經(jīng)過ADS仿真優(yōu)化得到了更為精確的LDMOS小信號電路模型參數(shù)。另一方面,在小信號模型的基礎上建立了RF LDMOS的大信號模型。其中LDMOS的非線性電流模型的建立以摩托羅拉的MET模型為基礎并進行了適當改進,非線性電容模型的建立借鑒了傳統(tǒng)的經(jīng)驗公式,模型的擬合結果顯示所建立的大信號模型可以較準確的描述LDMOS器件的電流和電容。

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