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文檔簡介
1、光刻工藝的變革是引起半導體行業(yè)發(fā)展的重要因素,隨著傳統(tǒng)干式光刻過渡到浸沒式光刻,集成電路特征尺寸已經(jīng)突破了45nm。浸沒式光刻和傳統(tǒng)干式光刻的主要區(qū)別在于物鏡與硅片之間填充了一層高折射率的浸沒液,這層浸沒液就是本文需要研制的超純水。半導體標準以可溶性硅、電阻率、TOC、溶氧及細菌為關鍵性指標來對超純水水質(zhì)進行表征。超純水制備技術從最初的物理蒸餾法發(fā)展到了如今以反滲透+電去離子技術相結合的先進制備工藝藝術。除此之外,隨著技術的更新與發(fā)展,
2、超純水也被應用于各行各業(yè),因此,市場前景廣闊,發(fā)展空間巨大。但是,目前國內(nèi)浸沒式超純水處理系統(tǒng)的工藝與美國等發(fā)達國家相比還有較大差距,研制符合浸沒式光刻技術要求的超純水處理系統(tǒng)具有重要的現(xiàn)實意義。
本文以設備需求方對新一代超純水處理系統(tǒng)提出的性能指標和功能指標為目標,設計了符合要求的超純水處理系統(tǒng),主要的工作包括以下內(nèi)容。
(1)工藝設計。通過對系統(tǒng)需求的分析,確定了符合要求的超純水處理系統(tǒng)總體設計方案,明確了電阻率
3、、溶解氧和TOC值為系統(tǒng)的關鍵性參數(shù),進而通過理論分析、數(shù)學計算以及實驗測試,驗證了指標的合理性。最后,對系統(tǒng)進行了動力學分析,完成了純水泵工作點的選擇。同時,對相關元器件進行了選型及采購。
(2)自動控制系統(tǒng)設計。在工藝原理流程圖的基礎上,完成了以西門子PLC為下位機,工控機為上位機的自動控制系統(tǒng)。設計了能夠?qū)鞲衅鲾?shù)據(jù)進行實時采集同時能夠控制系統(tǒng)參數(shù)的PLC程序。使用C#編寫了友好的系統(tǒng)界面程序、通信程序和包含用戶信息、系
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