三維集成電路硅通孔容錯技術研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩75頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、三維集成電路是延續(xù)摩爾定律的重要手段,TSV是三維集成電路的核心部件。作為一種新興技術,三維集成電路受到越來越多工業(yè)界和學術界人士的重視,和二維集成電路不同,三維集成電路借助硅通孔將多個芯片垂直堆疊,具有功耗低,帶寬高,面積小,性能好,支持異構集成等優(yōu)點,然而其制作工藝尚不成熟,TSV的制作工藝和層與層之間的堆疊會導致TSV發(fā)生泄漏和電阻開路故障,從而嚴重影響三維集成電路的良率和可靠性。TSV良率問題成為三維集成電路商品化的主要制約因素

2、。本文的主要研究內容如下:
  1)認真學習三維集成電路的基礎知識和分析三維集成電路的優(yōu)點,重點探索影響三維集成電路良率的TSV缺陷。分析TSV缺陷所引起的TSV故障,用HSPICE對TSV的故障進行參數建模,并分析故障TSV的故障效應。
  2)學習現有的TSV容錯方法,按照其對TSV的容錯機理,按容錯機理將其分為測試容錯和在線容錯兩種類型,著重研究這兩種容錯方案的優(yōu)缺點。基于現有理論研究新的TSV在線容錯方案。
 

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論