Temporal Evolution Of Surface Structure And MoRPHOLOGY In Thin-Film Growth.pdf

1、薄膜生長是一個非常復雜的隨機過程,它實質上是一個動力學的表面粗糙過程,通常發(fā)生在遠離平衡態(tài)。薄膜生長過程中的結構和形態(tài)的研究在很多領域都有實際的應用,特別是在半導體制造領域。研究這些性質有助于我們理解制造薄膜中涉及的有關機制,這樣就可以更好的控制薄膜的生長以達到我們期望的性質,包括電學,磁學和光學性質。因此這個課題近幾年得到越來越多的關注。然而,由于這些現(xiàn)象的復雜性和多樣性,直到今天,有關生長系統(tǒng)中的動力學粗糙過程的完整圖像還遠遠沒有完

2、全被揭示。為了理解和預言這樣的過程,人們通常構造各種模型。構造更加符合實際并接近試驗結果的模型的努力一直在進行。
　　 許多理論模型被用來描述表面結構和形態(tài)的演變。近來re-emission模型引起很多的關注。它提供了一組更加接近于試驗結果的動力學標度指數(shù)。本文主要探討了一些re-emission模型有意義的性質。
　　 第一章包括了我們理解表面粗糙和動力學標度的必要背景知識。第二章介紹了應用于表面粗糙的re-emiss

3、ion模型。第三章詳細介紹了我們如何進行MonteCarlo模擬。
　　 在第四章,我們研究了re-emission模型中的吸附系數(shù)。我們提出了有效吸附系數(shù)的概念。當粗糙度增加,再發(fā)射粒子可以被表面的其他部分捕獲,于是有效吸附系數(shù)將比表面平坦時的吸附系數(shù)s0大,于是我們研究了有效吸附系數(shù)s是如何隨時間和不同的粗糙度指數(shù)變化的。
　　 入射粒子的分布是re-emission模型的另一個重要部分,在第五章中,我們將研究由入射